R21新機能: フィールドワークフロー改善

R21ではフィールドのマスクとサブフィールドについてワークフローの改善が図られています.

マスクグループ

各フィールドレイヤにマスクグループを設定できるようになりました.フィールドレイヤリストでフィールドを選択したら,マスクアイコンをクリックしてマスクグループを追加します.

マスク用のフィールドを追加作成したら,マスクグループにドラッグ&ドロップします.マスクグループに割り当てられたフィールド形状に従い,元のフィールド効果をマスクします.

これによって,特定の箇所にのみフィールド効果を出すことが簡単に行えるようになりました.

サウンドフィールドにマスクグループを設定した例

サブフィールドグループ

次に挙げるフィールドはサブフィールドを持っています.R21ではフィールドレイヤリスト内にサブフィールドグループが表示されるようになったので,より効率よくサブフィールドをコントロールできます.R20ではフィールドの属性内にさらに別のフィールドリストがあり,複数のリストを行き来していたため,非常に複雑でした.

サブフィールドにフィールドを使用すると,新たな効果をその中に割り当てることができます.

数式フィールドのサブフィールドに線形フィールドを設定した例

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