R21新機能: フィールドワークフロー改善

R21ではフィールドのマスクとサブフィールドについてワークフローの改善が図られています．

マスクグループ

各フィールドレイヤにマスクグループを設定できるようになりました．フィールドレイヤリストでフィールドを選択したら，マスクアイコンをクリックしてマスクグループを追加します．

マスク用のフィールドを追加作成したら，マスクグループにドラッグ＆ドロップします．マスクグループに割り当てられたフィールド形状に従い，元のフィールド効果をマスクします．

これによって，特定の箇所にのみフィールド効果を出すことが簡単に行えるようになりました．

サブフィールドグループ

次に挙げるフィールドはサブフィールドを持っています．R21ではフィールドレイヤリスト内にサブフィールドグループが表示されるようになったので，より効率よくサブフィールドをコントロールできます．R20ではフィールドの属性内にさらに別のフィールドリストがあり，複数のリストを行き来していたため，非常に複雑でした．

サブフィールドにフィールドを使用すると，新たな効果をその中に割り当てることができます．

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